由國際電機電子工程師學會(Institute of Electrical and Electronics Engineers，IEEE)電子元件學會(Electron Devices Society)與日本應用物理學會(Japan Society of Applied Physics)主辦的Symposium on VLSI Technology是半導體領域的頂尖國際會議，被視為積體電路技術與先進半導體元件開發的指標，與會者包含世界知名大學學者與國際半導體大廠的研究人員。

 包括陳坤意同學與陳品璇同學在內的巫勇賢教授研究團隊成員共同開發以電漿處理提升鐵電材質可靠度的創新製程，有效克服了鐵電材質於反覆操作下的喚醒與疲乏效應，有助於新一代電晶體與記憶體的開發，研究成果將安排於會議的 Joint Circuit and Technology Focus Session發表。